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CEW-4000

一、 概述:

CEW-4000型半轴专用交直流荧光磁粉探伤机系机电组合型半自动磁粉探伤设备,由电源控制系统、夹持磁化装置、磁悬液系统等几大部分组成,适用于以湿式磁粉法检测由铁磁性材料制成的轴、管、棒类零件的表面及近表面因铸造、锻造、加工、疲劳等各种原因引起的裂纹和各种细微缺陷。

    本设备采用手动、自动两种运行方式,由可编程控制器(OMRON PLC)集中控制。手动时,可进行每个功能的单步独立操作;自动时,设备自动执行PLC内部程序,工件上料到位夹紧后,按启动按钮,可实现工件的喷淋—转动—充磁等一系列动作。手动退磁后松开工件。周向磁化采用直接通电,纵向磁化采用两组异形结构的线圈,具有良好的磁化效果。复合磁化在工件上形成旋转磁场,一次性全方位显示磁迹,具有较高的工作效率。

二、 主要技术参数:

2.1、磁化方式:周向、纵向、复合三种磁化方式;

2.2、周向磁化电流:AC 0-4000A有效值,连续可调;

2.3、纵向磁化磁势:AC 0-18000AT有效值,连续可调,

DC 0-18000AT平均值(半波两倍于平均值),连续可调;

2.4、周向退磁电流:AC 4000-0A有效值,连续可调;

2.5、纵向交流退磁磁势:AC 18000-0AT有效值,连续可调;

2.6、交流磁化后退磁效果:≤0.3mT;

2.7、电极间距:0-1250mm(电动可调);

2.8、暂载率:≥25%;

2.9、夹持方式:气动夹紧;

2.10、运行方式:手动/自动;

2.11、探伤灵敏度:15/50A1型试片清晰显示;

2.12、探伤节拍:约15秒/件(上下料及观察时间除外,探伤时间和工艺过程可根据需方实际需要,程序可调整);

2.13、电源:三相四线 380V±5%  50Hz  250A;

2.14、暗房尺寸: 3400mm (L)×2100mm (W)×2250mm (H)

探伤机尺寸:2700mm (L)×1000mm (W)×1500mm (H)(含喷淋架高度),

2.15、使用环境:温度-5℃+40℃,相对湿度≤80%,无腐蚀气体、粉尘及中高频干扰;

2.16、重量:约1300Kg。


 
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